DO_(22)相间反相畴界成分演化的微观相场模拟

作者：张明义; 杨坤; 陈铮; 王永欣; 张嘉振

来源：有色金属工程, 2012, (04): 21-27.

• 微观相场
• 反相畴界
• DO22-Ni3V相
• 溶质偏聚
• Ni75AlxV25-x合金

基于微观相场模型研究Ni75AlxV25-x合金沉淀过程中原子尺度界面结构对DO22-Ni3V相间反相畴界成分及其演化的影响。研究表明,在DO22相间反相畴界处,镍和铝偏聚,钒贫化。由于界面溶质拖曳效应和扩散,使得合金元素在反相畴界处的偏聚和贫化程度随时间改变,但倾向不变。不同反相畴界的界面原子排列方式存在差别,这使得合金元素在界面处占位几率所受到的影响不同,从而导致合金元素在不同界面处的偏聚和贫化程度不同。相对于DO22相沿[001]方向形成的反相畴界(002)//(002),反相畴界(002)//(002).[100]处,镍的偏聚程度较大,铝的偏聚程度较小,钒的贫化程度较小。DO22相沿[...

• 单位
  中国商用飞机有限责任公司北京民用飞机技术研究中心; 凝固技术国家重点实验室; 西北工业大学