荷电下的4,4'-二氨基二苯醚印迹吸附

作者：马明明; 杜茹; 楚楚

来源：深圳大学学报(理工版), 2020, 37(05): 536-542.

• 电化学合成
• 荷电量
• 4,4’-二氨基二苯醚
• 吸波材料
• 印迹聚合物
• 吸附模型
• 吸附机制

为提高复合吸波材料4,4’-二氨基二苯醚分子印迹聚合物(4,4’-diaminodiphenyl ether molecularly imprinted polymer,4,4’-ODL-MIP)-聚4,4’-二氨基二苯醚(poly 4,4’-diaminodiphenyl ether,P-4,4’-ODL)(4,4’-ODL-MIP-P-4,4’-ODL)的合成率,增强其电磁波吸收性能,探索在第2次电聚合过程中4,4’-ODL-MIP对模板分子4,4’-ODL的印迹吸附机制就十分重要.以与4,4’-ODL-MIP-P-4,4’-ODL的电磁波吸收性能密切相关的荷电量作为吸附量,在温度为298 K条件下,直接拟合了Langmuir、Brunauer-Emmett-Teller (BET)、Freundlich、Dubinin-Radushkevich (D-R)、Temkin和Henry 6种吸附等温模型方程.拟合数据显示,Langmuir、Dubinin-Radushkevich和Henry 3种等温吸附模型更适合模拟复合材料第2次电聚合中4,4’-ODL-MIP对溶液中4,4’-ODL的印迹吸附.同时,以荷电量所拟合的4种吸附反应动力学方程(准1级、准2级、Elovich及颗粒内扩散方程)结果显示,4,4’-ODL-MIP印迹吸附4,4’-ODL是准一级动力学反应,且反应速率大小受液膜和颗粒内扩散控制.通过荷电量所计算的4,4’-ODL-MIP印迹吸附4,4’-ODL的热力学参数,在吸附温度范围273.15～313.15 K内,吉布斯函数变化值ΔG <0,焓变ΔH和熵变ΔS均大于0,表明自发进行的4,4’-ODL-MIP印迹吸附4,4’-ODL是吸热和无序度增加的过程.因此,溶液中的4,4’-ODL被4,4’-ODL-MIP自发印迹吸附,有助于第2次电聚合反应的快速实施,以保证复合材料获得优良的吸波性能.

• 单位
  西安工程大学