熔融石英玻璃衬底的平面研磨加工实验研究

作者：阎秋生; 李基松; 潘继生^*

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2019, 39(01): 60-65.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2019.1.0011

• 熔融石英玻璃
• 游离磨料
• 研磨
• 材料去除率
• 表面粗糙度

熔融石英玻璃衬底的研磨加工是其超光滑抛光加工的基础工序。采用游离磨料对熔融石英玻璃进行单面粗研和精研加工,研究磨料质量分数、研磨盘转速、研磨液流量和研磨时间对石英玻璃表面质量和材料去除率的影响。结果表明:粗研过程中,随着磨料质量分数、研磨盘转速、研磨液流量的增大,工件材料去除率先增大后减小;随着加工时间的延长,表面粗糙度Ra逐渐达到稳定水平。在磨料质量分数4%、研磨液流量20 mL/min、研磨盘转速60 r/min、加工30 min时,熔融石英玻璃衬底的表面粗糙度Ra达0.11μm。在熔融石英玻璃衬底的精研过程中,选用平均粒径3μm的CeO2加工50 min后的表面粗糙度Ra最低,为4.11 nm。

• 单位
  广东工业大学