射频磁控溅射超硬TiB_2薄膜的T区结构特征

作者：戴伟; 张同俊; 杨君友; 孙荣幸; 许聚良

来源：材料科学与工程学报, 2008, (05): 697-699+683.

DOI：10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2008.05.027

• TiB2薄膜
• 超硬涂层
• 磁控溅射
• 薄膜区域结构模式
• 等轴结构 TiB_2 thin films
• superhard coatings
• magnetron sputtering
• structure Zones 1
• 2
• T
• equiaxed structure

用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响。使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性。发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈(001)晶面择优生长。当基片偏压在-50 V时,薄膜的硬度为50 GPa,抗塑性变形的能力为0.65 GPa。加大基片偏压,导致薄膜晶粒尺寸减小,同时薄膜的硬度和抗塑性变形的能力也下降。扫描电镜分析显示,基片温度对T区结构的影响是明显的,提高基片温度,当Ts/Tm=0.18时,薄膜中出现"等轴"结构。

• 单位
  华中科技大学; 武汉科技大学; 材料成形与模具技术国家重点实验室