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摘要
电致变色材料外加低电场控制下可以改变其对太阳光的透射、反射和吸收等光学特性，在节能窗、静态显示以及军事领域具有广泛的应用。氧化镍(NiO)作为一种重要的离子存储层材料以及阳极着色材料，具有光学对比度大、原料丰富和环境友好等优点，但是也存在着循环稳定性差和响应速度较慢等缺点。为了解决这些问题，NiO材料的合理结构设计至关重要。综述了关于氧化镍多孔纳米结构的设计与电致变色性能表现。讨论了不同的制备方法所获得的NiO多孔纳米结构的形貌结构和性能特点，并将NiO多孔薄膜与其对应的致密膜在性能上进行了对比。最后对多孔NiO多孔纳米结构的发展进行了展望。
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