磁控溅射镀膜技术简述

作者：刘瑞鹏; 李刘合

来源：中国青年科技, 2006, (08): 56-59.

• 磁控溅射沉积
• 溅射镀膜技术
• 非平衡磁控溅射
• 磁控溅射技术
• 磁控溅射镀膜

<正>上世纪80年代开始,磁控溅射技术得到迅猛的发展,其应用领域得到了极大地推广。现在磁控溅射技术已经在镀膜领域占有举足轻重的地位,在工业生产和科学领域发挥着极大的作用。随着对薄膜质量要求的不断改变,此项技术也将不断地完善和发展下去。