占空比和频率对脉冲电镀钨–钴合金的影响

作者：卢海鹏; 秦俊奇; 狄长春; 杨玉良

来源：电镀与涂饰, 2018, 37(07): 281-285.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2018.07.001

• 钨–钴合金
• 脉冲电镀
• 频率
• 占空比
• 微观结构
• 显微硬度

采用脉冲电沉积法在PCr Ni3Mo VA钢上制备钨–钴合金镀层,基础镀液配方和工艺条件为:CoSO4·7H2O 56.2 g/L,Na2WO466 g/L,H3BO3 40 g/L,柠檬酸钠64.5 g/L,柠檬酸7.68 g/L,p H=6.7±0.1,温度58°C,平均电流密度0.5 A/dm2,脉冲频率6.7333.0 Hz,占空比3.3%66.7%,时间50 min。探究了脉冲频率和占空比对钨–钴合金镀层形貌、成分、物相、显微硬度等的影响。当脉冲频率为33.30 Hz,占空比为33.3%时,电镀所得钨–钴合金镀层平整、致密,晶粒细小,含钨17.09%(原子分数),显微硬度为719.1 HV。

• 单位
  中国人民解放军陆军工程大学