极端电场环境激励下的VO2相变性能研究与应用

作者：何长安; 王庆国^*; 曲兆明; 孙肖宁; 邹俊; 杨鸿鸣; 娄华康

来源：功能材料, 2020, 51(01): 1063-1068.

• 氧化钒薄膜
• 微纳卫星设计
• 场致相变
• 卫星控制系统
• 晶体生长
• XRD
• 溅射气压

为揭示VXOY薄膜场致相变规律,推广钒氧化物应用于卫星控制系统,指导氧化钒规模制备,将磁控溅射法和真空退火工艺相结合,在Al2O3陶瓷基片上制备出VXOY薄膜,降低了实验对仪器精度的要求,提高了实验的成功率。对基片进行磁控溅射镀膜,在管式炉中进一步氧化处理生成表面均匀的V2O5,然后进行高温退火处理,对不同退火条件下的生成的薄膜进行了XRD表征。测得了电场激励下VXOY薄膜的相变现象,验证了电场激励下焦耳热并非薄膜相变的主导因素;总结了不同组分下VXOY薄膜的相变规律,研究了不同V6O13含量对VO2薄膜临界相变电压的影响规律,可指导VXOY薄膜应用于微纳卫星等极端环境下的设备控制系统。

• 单位
  中国人民解放军陆军工程大学