化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析

作者:王海*; 周文; 史巍
来源:首都师范大学学报(自然科学版), 2023, 44(05): 52-61.
DOI:10.19789/j.1004-9398.2023.05.009

摘要

通过对美国罗门哈斯公司1997—2020年在抛光垫领域的专利申请进行分析,得到其全球专利申请量分布和申请趋势、专利转让情况、专利法律状态、专利布局区域、专利引用状况以及技术发展脉络等重要信息。确定了该公司从1909年至今在该领域中的研发历程和研发重点方向,为我国企业在该领域的发展和突破,以及在技术和区域方面的专利布局提供一定的参考,促进我国在化学机械抛光垫领域中的健康发展。

  • 单位
    国家知识产权局

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