离子注入剥离铌酸锂单晶薄膜的Ar+刻蚀研究

作者：方远苹; 罗文博; 郝昕; 白晓园; 曾慧中; 帅垚; 张万里

来源：压电与声光, 2020, 42(05): 674-677.

• 铌酸锂(LNO)单晶薄膜
• 表面损伤层
• +刻蚀" name="keyword">Ar+刻蚀
• 晶体质量
• 压电性能

通过高能离子注入剥离制备的铌酸锂(LNO)单晶薄膜具备优良的电光、声光等性能,在射频器件、光波导等领域需求迫切。高能离子注入使LNO单晶薄膜表面存在损伤层,导致薄膜质量和器件性能的衰减。该文提出了Ar+刻蚀去除LNO单晶薄膜损伤层的方法,基于高能离子注入仿真,采用扫描电子显微镜、原子力显微镜分析了刻蚀参数对刻蚀速率、表面形貌的影响,并确定了LNO薄膜损伤层的刻蚀工艺参数。X线衍射分析表明,通过Ar+刻蚀将LNO薄膜摇摆曲线半高宽减至接近注入前LNO单晶材料,压电力显微镜测试表明去除损伤层后的LNO单晶薄膜具备更一致的压电响应。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室