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摘要
利用化学气相沉积(CVD)技术制备了HfO2涂层和Ir/HfO2复合涂层，采用金相显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、电子探针(EPMA)对涂层的性能进行分析。结果表明：在沉积Ir时，沉积室升温速率≤10℃/min时，制备出的Ir/HfO2复合涂层经真空高温热处理后可获得表面质量良好的Ir层，且Ir层纯度达到99.77%；真空热处理有益于提高Ir/HfO2复合涂层之间的结合程度，且热处理温度越高，结合效果越好；表面制备有HfO2涂层的Ir棒在1980℃氧化10 h的条件下，HfO2涂层对Ir的保护效果显著，可将Ir的氧化深度由毫米级降至数十微米。
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