二五混水平U型设计的Lee偏差下界

作者：李伟; 汪政红^*

来源：中南民族大学学报(自然科学版), 2023, 42(04): 571-576.

DOI：10.20056/j.cnki.ZNMDZK.20230420

• Lee偏差
• 二五混水平设计
• U型设计
• 下界

研究了二五混水平U型设计在Lee偏差下的均匀性，利用两种不同的新方法，即CHATTERJEE和HU的方法得到了二五混水平U型设计的两个下界，并将它们综合成一个下界，同时以数值实例验证了该综合下界是紧的，且优于以往文献中的下界.

• 单位
  中南民族大学