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摘要
为了解决纳米光栅加速度计交叉轴干扰的问题，提出了一种原理可行、工艺可行的加速度计结构设计及加工方法。首先，介绍了双光栅加速度计的工作原理及结构组成，通过Ansys结构仿真和COMSOL双光栅仿真，验证了交叉轴干扰对双光栅离面加速度计性能测试不可忽略的影响。其次，提出了一种抗交叉轴干扰、且工艺简单的加速度计结构。仿真结果表明：该结构能有效避免交叉轴干扰，且具有较高的结构灵敏度。最后，基于SOI片对双光栅离面加速度计的加工方案进行完整描述，验证了这种加速度计加工方法的可行性及易操作性，为抗交叉轴干扰的离面加速度计设计和制作提供了思路。
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