硫酸铈(Ⅳ)对镍沉积层晶粒细化和电结晶行为的影响

作者：徐仰涛^*; 杜海洋; 彭尹; 代靖民; 裴亮

来源：中国有色金属学报, 2023, 1-20.

• 镍
• 工业电解液
• 硫酸铈(Ⅳ)
• 晶粒尺寸
• 电结晶

在工业电沉积镍的过程中，镍的晶粒尺寸将会直接影响其在工业生产中的使用情况。因此细化沉积层晶粒就显得尤为重要。本文选用三电极体系，通过测试工业电解液中不同(0 g/L-1.5g/L)硫酸铈(Ⅳ)浓度下阴极极化曲线、循环伏安曲线和计时电流曲线，探究硫酸铈(Ⅳ)对电沉积镍电结晶行为的影响规律；通过扫描电镜和X射线衍射对哈林槽实验获得的镍沉积层的晶粒尺寸和结构取向进行分析，探究硫酸铈(Ⅳ)对工业电解中镍沉积层晶粒细化及晶体生长取向的影响。结果表明：添加硫酸铈(Ⅳ)后，镍的起始沉积电位发生负移，阴极过电位增大，硫酸铈(Ⅳ)的加入对镍的电结晶起促进作用。未加入硫酸铈(Ⅳ)时，沉积层晶粒粗大不均匀；随着添加剂的加入，使镍沉积层晶粒明显细化；当添加浓度为0.6g/L时，峰值电流最大且形核驰豫时间最短，沉积层晶粒尺寸最小，细化效果最优，为硫酸铈(Ⅳ)的最优添加浓度。

• 单位
  兰州理工大学; 兰州理工大学白银新材料研究院