脉冲偏压对电弧离子镀TiNbN硬质薄膜相结构的影响

作者：肖微; 赵彦辉; 林国强; 董闯; 闻立时

来源：真空科学与技术学报, 2005, 25(5): 319-322.

DOI：10.3969/j.issn.1672-7126.2005.05.001

• 电弧离子镀
• 脉冲偏压
• 硬质薄膜
• 氮化钛铌
• 相结构

用电弧离子镀设备,在其他工艺参数相同的条件下,通过仅改变脉冲偏压幅值的方法分别沉积TiNbN硬质薄膜,考察脉冲偏压对薄膜相结构的影响.结果表明,TiNbN硬质薄膜的相结构随脉冲偏压幅值的变化而变化:当幅值为-300 V时,得到TiN类型的(TiNb)N的固溶体;-600 V时,得到TiN和δ-NbN的混合相结构;而在-900 V时,则得到TiN和δ-NbN以及β-Nb2N三相混合结构.分析表明,脉冲偏压能够改变薄膜相结构,这与不同偏压提供的离子沉积能量,能够分别满足各个化合物生成自由能的热力学条件有关.

• 单位
  大连理工大学