调制溅射功率对掺镓氧化锌薄膜光电性能影响

作者:张志秦; 胡跃辉*; 张效华; 胡克艳; 陈义川; 朱文均; 帅伟强; 劳子轩
来源:陶瓷学报, 2019, 40(02): 186-190.
DOI:10.13957/j.cnki.tcxb.2019.02.010

摘要

使用射频磁控溅射法在石英衬底上制备ZnO掺Ga薄膜(GZO),通过调制不同的溅射功率制备GZO薄膜,研究了溅射功率对GZO薄膜光电学性能的影响。对不同溅射功率下的GZO薄膜进行X射线衍射、扫描电镜(SEM)、内应力、紫外可见光光谱、光致发光谱分析和电学性能分析。结果表明:随着溅射功率的提高,GZO薄膜保持良好的C轴择优取向;薄膜结晶度增加,晶界减少,晶粒尺寸增大;透光性减小;薄膜缺陷降低;薄膜表面方块电阻下降。

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