恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉薄膜

作者：刘小勤; 黄凤祥; 曾冬铭; 黄发军; 刘中兴

来源：电镀与涂饰, 2014, 33(24): 1041-1044.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2014.24.001

• 镀镍层
• 8-羟基喹啉
• 薄膜
• 聚合
• 电沉积
• 恒电位法
• 耐蚀性

采用恒电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜。研究了沉积电位、8-羟基喹啉浓度、Na OH浓度、沉积时间等工艺条件对薄膜耐蚀性的影响。分别采用盐水周浸泡试验、三氯化铁缝隙试验和Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性。采用扫描电镜表征了聚8-羟基喹啉薄膜的表面形貌。恒电位法沉积的最佳工艺条件为:8-羟基喹啉2 mmol/L,Na OH 0.4 mol/L,电位0.5 V,时间300 s,室温。采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性略优于循环伏安法试样,远优于空白工件。

• 单位
  特能宝化学原料有限公司; 江西瑞林稀贵金属科技有限公司; 中南大学; 化学化工学院; 有色金属资源化学教育部重点实验室