第十九讲 真空溅射镀膜

作者：张以忱

来源：真空, 2016, 53(02): 78-80.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2016.02.19

• 溅射镀膜
• 刻蚀
• 靶材
• 靶面
• 磁力线
• 磁路
• 垂直靶
• 蚀刻
• 水蚀
• 平面磁控溅射靶
• 横向磁约束
• 磁阻力
• 运动电荷

<正>(接2016年第1期第80页)b.组合磁路改进磁场结构,用组合磁场代替传统的单一磁场,其目的是更有利于放电的稳定(离化率高)和增宽靶材的刻蚀区,提高靶材的利用率。图42是传统磁控源的磁场结构原理图。为单一磁路系统,磁力线的方向都是垂直靶面的,依靠磁力线在空间弯曲,在拱形磁力线的顶部形

• 单位
  东北大学