电磁膜片射流扰动技术制备1.0mm以上均一微滴的研究

作者：王同举^*; 张琦美; 刘亚浩; 张文倩; 雷永平

来源：机械科学与技术, 2023, 1-6.

DOI：10.13433/j.cnki.1003-8728.20230354

• 均一微滴
• 射流扰动
• 电磁膜片
• 电子封装

射流扰动技术制备的均一颗粒可应用在电子封装、生物制药和3D打印等领域。然而，利用射流扰动技术制备1.0mm以上均一微滴时，腔体内的流体会自动从喷嘴出口处流出形成射流液柱，难以保证射流速度与扰动频率相互匹配。基于此，本研究以水为实验材料，通过微注射泵精确控制射流液柱的流速，利用电磁膜片射流扰动技术产生的扰动控制射流液柱端头断裂形成均一微滴，在流量为20-30ml/min、电流为15-30A、频率为150-350Hz的范围内，可以实现电磁膜片射流扰动技术制备1.0mm以上均一微滴。

• 单位
  北华航天工业学院; 北京工业大学