一种晶型及厚度可控的二氧化锆薄膜的制备方法

作者：姚日晖; 黎群杰; 宁洪龙; 邱斌; 符晓; 陈俊龙; 张观广; 袁炜键; 周尚雄; 彭俊彪

来源：2020-04-21, 中国, ZL202010315773.4.

本发明属于薄膜材料制备技术领域,公开了一种晶型及厚度可控的二氧化锆薄膜的制备方法。以氧化锆为靶材,将玻璃基片放置在基板上,将真空腔室抽至2×10～(-4)～5×10～(-4)Pa,调整靶材与基板之间的距离,设置脉冲频率为4～6Hz,激光能量为150～350mJ,采用非圆形的激光光斑照射靶材,预沉积1～3min后将脉冲数设置为10000～30000次继续沉积,然后在空气环境中热退火,退火温度为300～400℃,得到晶型及厚度可控的二氧化锆薄膜。本发明通过激光光斑的形状及基片放置的位置调控薄膜晶型,通过沉积时的脉冲数及靶材-基板距离等调节厚度,可以实现一次制样得到不同晶型及厚度的氧化锆薄膜。

• 单位
  华南理工大学