掺锑Zn-Sn-O透明导电膜的制备及特性

作者：黄树来; 马瑾; 盖凌云; 姜永超; 计峰; 马洪磊; 余旭浒

来源：太阳能学报, 2005, (05): 626-630.

• 磁控溅射
• Zn-Sn-O:Sb膜
• 光电性质 magnetron sputtering
• Zn-Sn-O:Sb film
• opto-electrical properties

采用射频磁控溅射技术在7059玻璃衬底上低温制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明 导电膜。研究了制备薄膜的结构、成分、电学和光学特性以及退火温度对薄膜性能的影响。Zn-Sn-P:Sb透明导 电膜的电阻率为1．5×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为8．0×1019cm-3,5.8cm2·v-1·s-1。薄膜的 可见光平均透过率达到了85％。

• 单位
  山东大学; 青岛农业大学