量子点膜用高阻隔膜制备技术研究进展

作者:秦丽丽; 冯煜东; 董茂进; 韩仙虎; 王毅; 蔡宇宏; 马凤英; 王冠
来源:表面工程与再制造, 2021, 21(01): 23-28.

摘要

量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品,高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性。通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标,总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用,展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明,量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻隔复合薄膜,是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。