钨及其合金超精密抛光研究进展

作者：许良; 王林; 陈泓谕^*; 杭伟; 吕冰海; 袁巨龙

来源：表面技术, 2022, 51(04): 24-36.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2022.04.003

• 钨合金
• 超精密抛光
• 表面质量
• 低损伤
• 力流变抛光

钨及其合金是当今高新技术产业重要的基础材料。近年来，科技的发展对材料表面质量提出了更高的要求，因此在特定条件下有必要对钨及其合金进行超精密抛光。聚焦高效、高质量、低损伤抛光，结合国内外相关研究，对适用于钨及其合金的超精密抛光方法如化学机械抛光（CMP）、电化学抛光（ECP）、磁流变抛光（MRF）、电流变抛光（ERP）、力流变抛光（FRP）进行了综述，阐述了各种抛光方法的加工原理、特点及其材料去除机理。从加工效率、加工精度、加工成本、环保等方面进行比较，概述了各种抛光方法的优势及其局限性。考虑到钨及其合金不同的应用需求，适用的抛光方法不尽相同。CMP、ECP主要用于钨及其合金的高效抛光，但存在抛光液污染的问题。MRF、FRP则可实现复杂曲面的超精密抛光，是较有前景的抛光新方法。最后从丰富理论体系、优化抛光工艺、注重经济环保3个方面对钨及其合金超精密抛光的发展趋势进行了展望。

• 单位
  浙江工业大学