制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究

作者：刘全; 吴建宏; 陈刚; 方玲玲

来源：光通信研究, 2006, (3): 58-60.

DOI：10.3969/j.issn.1005-8788.2006.03.018

• 相位掩模
• 光纤光栅
• 衍射效率
• 严格耦合波理论

利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究.研究发现,在紫外写入波长(248 nm)下,为了使零级衍射效率＜5%,且±1级的衍射效率＞35%,相位掩模的刻槽深度必须控制在230～280 nm,占宽比必须控制在0.48～0.65.同时,与标量衍射理论的结果进行了分析对比.这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果.

• 单位
  苏州大学