KS-B高吸收高发射率无机热控涂层低轨环境效应

作者：丁为; 白晶莹; 蔺鹏婷; 吴琼; 孟腾; 张家强^*

来源：表面技术, 2020, 49(12): 38-43.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.12.006

• 低轨环境
• 高吸收高发射
• 无机热控涂层
• 太阳吸收比
• 半球发射率

目的研究低轨环境对KS-B高吸收高发射无机热控涂层(简称KS-B涂层)性能的影响。方法对KS-B涂层分别进行总剂量为3.9×1022 atoms/cm2的原子氧辐照、剂量为5000 ESH的真空-紫外辐照、总注量为9.30×1011p/cm2的真空-质子及总注量为1.108×1014e/cm2的真空-电子综合辐照试验,分析空间模拟辐照环境中KS-B涂层太阳吸收比(αS)、半球发射率(εH)、表面形貌、表面组分含量、质量损失率等性能的变化规律,研究KS-B涂层的耐空间环境稳定性。结果原子氧暴露后,KS-B涂层太阳吸收比增加0.003,半球发射率增加0.004;原子氧辐照后,KS-B涂层表面形貌出现了一定程度的糙化,表面Si、O元素含量下降。初始暴露时,KS-B涂层质量损失率逐渐提高,最终质量损失率为0.96%。真空-紫外辐照后,KS-B涂层太阳吸收比增加0.003,半球发射率无变化。真空-质子及真空-电子辐照前后,KS-B涂层太阳吸收比增加0.001,半球发射率无变化。结论经历原子氧、真空-紫外、真空-质子及真空-电子模拟辐照后,KS-B涂层的太阳吸收比及半球发射率变化较小,具有较好的耐空间辐照性能,可以满足空间站等低轨航天器的长寿命服役需求。

• 单位
  北京卫星制造厂有限公司