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摘要
本发明公开了一种微孔内壁导电层的制作方法,通过离子发射源发射离子,离子在两片多孔薄电极的电场作用下聚焦,精准进入基片微孔,在孔内发生碰撞,沉积在微孔内壁形成薄膜；方法中的结构有：真空室、离子发射源、聚焦极、加速极、微孔基片；多孔薄电极有：聚焦极、加速极；聚焦极施加高电位电压,加速极施加低电位电压。本发明通过调变电极板孔径、电极板电势差、两极板间距,可以有效的调变离子束聚焦位置和聚焦程度大小,微孔基片在距加速极板3-20mm内都可以进行有效沉积,可对直径为0.1-3mm基板孔进行沉积,离子利用率可达到40％-70％,与传统投影入射相比,离子入孔效率提升一至两个数量级,有效地解决微孔内壁镀膜效率低的难题。
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