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摘要
在分析掩膜版出现线状mura主要是由于图形关键尺寸(critical dimension,CD)精度周期性波动的基础上，深入分析了光刻设备的曝光原理以及掩膜版光刻过程，得出导致掩膜版图形CD精度周期波动的因素，主要是扫描带(scanstrip)与扫描带之间重叠区域(overlap)的能量与扫描带内的能量差异所致。基于此，给出了几种可以减弱掩膜版线状mura现象的方法，并深入分析了每种方法适用的情景及限制条件，从而可以根据具体的光刻图形，来选取合适的线状mura控制方法，以期在最大程度上减少掩膜版线状mura的问题。
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