摘要

散射测量是一种通过测量周期性标记的散射光特征,使用逆向求解算法获得标记参数的非接触式测量技术。对散射测量原理样机的光机分系统进行了设计,并进行了集成调试。通过所设计的光机分系统,实现了散射测量原理样机对晶元形貌线宽和套刻工艺100 nm级测量,取得了半导体检测领域的重大突破。

  • 单位
    上海微电子装备有限公司