高PS材料制备及工艺研究

作者：张家祥^*; 王威; 王彦强; 焦宇; 周海龙; 张芳; 徐闪闪; 陈召; 覃一锋; 张文余; 黄东升; 陈思

来源：液晶与显示, 2019, 34(03): 236-240.

• 液晶透镜
• PS材料
• 高膜厚

本文对高膜厚PS材料进行了研究,通过工艺优化,成功在G5线实现了60～120μm的高PS。通过前烘工艺和固化工艺优化调整,得到了无气泡、膜面良好的高PS材料。本文还对曝光量对PS影响进行了研究,发现曝光量低于50mJ时,PS材料无法有效成型;当曝光量达到150mJ时,得到形貌良好,达到设计值的PS。最后还对不同基底高PS材料进行了研究,发现未进行增粘处理时,SiN基底粘附性良好,Mo基底还需继续优化处理。