晶界氧吸附对SrTiO_3基压敏陶瓷的作用

作者：李建英; 李盛涛

来源：稀有金属材料与工程, 2005, (11): 54-57.

• SrTiO_3陶瓷
• 晶界
• 压敏电阻 SrTiO3 ceramics
• grain boundary
• varistor

研究了SrTiO3基压敏陶瓷热处理过程中氧的作用。发现SrTiO3基压敏陶瓷的压敏电压U10mA与试样的厚度无关,且随着热处理温度的升高而增大。进一步的试验表明SrTiO3基压敏陶瓷的压敏特性主要受试样表面高阻层的控制。X射线光电子能谱(XPS)的Mn2p和O1s谱图表明,表面高阻层是氧在热处理过程中通过晶界的扩散和化学吸附产生的。因此,氧在晶界处的化学吸附是SrTiO3基陶瓷压敏特性产生的根源。

• 单位
  西安交通大学; 电力设备电气绝缘国家重点实验室