退火气氛对SnO_2:F薄膜low-e性能的影响（英文）

作者：高倩; 李铭; 刘涌; 宋晨路; 葛言凯; 韩高荣

来源：稀有金属材料与工程, 2012, S3: 304-309.

• Low-e
• SnO_2:F薄膜
• 退火
• 常压化学气相沉积 low-emissivity
• SnO_2:F thin film
• annealing
• APCVD

SiO_2:F薄膜作为low-e玻璃的功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。对帮化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250 nm厚的SiO_2:F薄膜进行不同气氛的退火处理。结果发现,薄膜的电学、光学性能在氦气和空气两种不同的退火气氛下会有显著的变化。SiO_2:F薄膜的Low-e性能经过空气中高温退火下降明显。但在空气中退火后,再在氮气保护下退火,性能会有所恢复。对该现象的机理也进行了研究。

• 单位
  浙江大学; 硅材料国家重点实验室