磁控溅射氧化钛薄膜的电学特性研究

作者：李林; 吴志明; 居勇锋; 蒋亚东

来源：电子器件, 2011, (06): 625-628.

• TiOx薄膜
• 霍尔效应
• X射线光电子能谱
• 电阻温度系数 TiOx thin film
• Hall effect
• XPS
• TCR

采用直流磁控溅射法在K9玻璃上制备了不同溅射温度和氧气流量的氧化钛(TiOx)薄膜。采用XPS、霍尔效应测试仪对薄膜的组份、载流子浓度和迁移率进行了测试,发现随着溅射氧气流量的增大,薄膜中的氧元素比例增大,载流子浓度减小,迁移率增大。分析了TiOx薄膜的电阻温度系数(TCR)与溅射温度和氧分压的关系,薄膜的电阻率从0.01Ω.cm上升到2Ω.cm时,TCR值从-1.3%上升到-2.14%。同一温度制备的TiOx薄膜随着氧气流量的增大TCR增大;方阻值相同的TiOx薄膜,随着制备温度的提高其TCR增大。

• 单位
  光电信息学院; 电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室