基于抛光基材的热蒸镀铜箔生长高平整单层石墨烯薄膜

作者：谢颖; 韩磊; 张志坤; 汪伟; 刘兆平^*

来源：人工晶体学报, 2022, 51(11): 1903-1910.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.20220906.002

• 石墨烯薄膜
• 高平整度
• 抛光基材
• 热蒸镀
• SiO2/Si基材
• 铜箔
• 成核密度

在石墨烯的化学气相沉积工艺中，铜箔是决定石墨烯薄膜质量的重要因素。传统铜箔由于制备工艺的限制，存在大量的缺陷，导致石墨烯薄膜的成核密度较高。本工作选用抛光铝板、抛光不锈钢板、微晶玻璃和SiO2/Si作为基材，用热蒸镀法制备了不同粗糙度的铜箔，并详细讨论了以该系列铜箔生长高平整度石墨烯薄膜的条件及铜箔对石墨烯薄膜品质的影响。实验结果表明，铜箔以(111)取向为主，与基材分离后，表面具有纳米级平整度。在生长石墨烯后，从SiO2/Si剥离的铜箔成核密度是4种基材中最小的。同时，从SiO2/Si剥离的铜箔晶体结构变化最不明显，具有良好的结晶性，表面几乎不存在铜晶界缺陷。当压强为3 000 Pa,氢气和甲烷流速分别为300 mL/min和0.5 mL/min时，可以获得约1 mm横向尺寸的石墨烯单晶晶畴。

• 单位
  中国科学院宁波材料技术与工程研究所; 宁波大学