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摘要
根据圆孔光学元件的抛光特点，采用有限元仿真分析磁极头厚度、气隙宽度及铁芯宽度等因素对磁场强度的影响规律，设计优化了一种新型高效抛光头，获得磁场强度最大值为H=144520A/m且覆盖宽度l=1.37mm，并对K9光学玻璃进行了抛光试验。试验结果表明：采用电磁铁励磁的磁流变抛光头可以实现光学元件表面的高精度面型加工。
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根据圆孔光学元件的抛光特点，采用有限元仿真分析磁极头厚度、气隙宽度及铁芯宽度等因素对磁场强度的影响规律，设计优化了一种新型高效抛光头，获得磁场强度最大值为H=144520A/m且覆盖宽度l=1.37mm，并对K9光学玻璃进行了抛光试验。试验结果表明：采用电磁铁励磁的磁流变抛光头可以实现光学元件表面的高精度面型加工。
