溶胶-凝胶法制备NixZn1-xS薄膜的磁性分析

作者：薛红艳

来源：原子与分子物理学报, 2019, 36(01): 134-137.

• ZnS薄膜
• Ni掺杂
• 溶胶-凝胶法
• 磁性
• 缺陷

由于离子掺杂可有效改善ZnS薄膜的特性,故本研究以溶胶-凝胶法制备NixZn1-xS薄膜(x=0.00, 0.05, 0.10, 0.15),并利用XRD、PL光谱及磁性测试仪分析Ni掺杂对其磁性的影响.研究结果表明Ni掺杂量x为0.00、0.05、0.10及0.15时薄膜的饱和磁化强度随分别为6.59×10-6 emu/cm3、4.61×10-6 emu/cm3、3.88×10-6 emu/cm3及3.52×10-6 emu/cm3,即饱和磁化强度随x增加而减小. PL分析表明缺陷发光强度随x增加而减弱,能隙发光强度则随之增强,结合束缚极化子理论便知饱和磁化强度会随x增加而减小. XRD分析表示结晶品质随x增加而变好,说明薄膜中的缺陷数量会随x增加而减少,使得磁信号无法通过缺陷方式传导而导致其磁性减弱.

• 单位
  永城职业学院