CoNiWP合金化学镀过程中镀层磁性能的变化

作者：李丹虹; 程旭东; 王晋春; 杨章富

来源：表面技术, 2005, (04): 15-17.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2005.04.005

• 化学镀
• Co-Ni-W-P合金
• 磁性能 <Keyword>Electroless deposition
• Co-Ni-W-P alloy
• Magnetic property

采用化学镀法在NiTi形状记忆合金基体表面镀覆CoNiWP磁性薄膜。用扫描电镜表征镀层形貌,结果表明,化学镀开始初期,镀层颗粒比较细微(直径1~10μm),后来逐渐长大成胞状结构(直径10~40μm),而镀层在基体上的产生是从催化活性比较高的部位开始产生,然后逐渐向整个基体表面蔓延,进而覆盖整个表面。用振动磁强计测试样品的磁性能,结果表明,镀覆的金属薄膜是无定形结构并具有较好的磁性能,其矫顽力是随化学镀进程逐渐增大到一定值后再逐渐下降。

• 单位
  武汉理工大学; 材料复合新技术国家重点实验室