窄带隙半导体光催化材料研究进展

作者：占启安

来源：中国陶瓷工业, 2013, 20(04): 23-26.

DOI：10.13958/j.cnki.ztcg.2013.04.010

• 窄带隙
• 半导体
• 光催化

概述了窄带隙半导体光催化材料的光催化反应机理、新型窄带隙半导体光催化材料的种类以及影响窄带隙半导体光催化材料的光催化活性的因素。介绍了传统半导体光催化材料的掺杂改性方法和一些新型的窄带半导体光催化材料。

• 单位
  中国轻工业陶瓷研究所