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摘要
纳米级多孔硅复合含能材料是当前各国军事领域的重要新兴材料，其由于具有较大的比表面积和较高的反应活性，在一定触发条件下发生快速燃烧爆炸，放出高效能量。为实现纳米多孔硅批量生产，采用电化学阳极氧化法小批量制备多孔硅，通过扫描电子显微镜(SEM)、稳态荧光光谱仪对多孔硅的结构形貌、光致发光特性进行分析研究。结果表明：多孔硅的发光强度随腐蚀时间的延长先增后减，与电流密度呈负相关，其荧光特征峰随电解液配比中氢氟酸含量的增加趋向红移；增大电流密度和延长腐蚀时间即可制备出孔隙率大、纵向刻蚀深的多孔硅，且随着腐蚀液体系中氢氟酸浓度配比的增加，在可控的实验范围内制备出的纳米级多孔硅均匀性、致密性和平整度越好，有望实现多孔硅的批量可控生产。
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单位重庆大学; 化学化工学院
