青瓷釉的自还原法制备及机理研究

作者：贺鹏; 王芬^*; 朱建锋; 汪加欢; 施佩; 陈璞

来源：中国陶瓷, 2019, 55(11): 58-66.

DOI：10.16521/j.cnki.issn.1001-9642.2019.11.011

• 青瓷釉
• 烧成气氛
• 自还原法
• 反应机理

以生料石灰碱釉为基础,通过四角配料法确定青瓷釉基础配方。在此基础上,外加还原剂硅粉在氧化气氛下成功制备青瓷釉。并借助于紫外可见分光光度计、XPS、TG-DSC进行分析。研究表明:自还原法制备青瓷釉最佳配方为:24%熔块、30%石英、24%长石、8%方解石、5%高岭土、3%滑石、4%氧化锌、2%氧化锡、1%氧化铁、0.4%硅粉,最佳烧成温度为1250℃;随着还原剂硅粉加入量的增加,硅粉与三氧化二铁氧化反原反应更加充分,使得釉面朝着青色调方向改变。与此同时釉内残余石英逐渐增多且尺寸变大,当硅粉加入量超过0.45wt%时釉面产生缺陷;其呈色机理为:随着还原剂硅粉加入量的提高,釉内Fe3+与Fe2+的含量比减少,且釉面在紫外区吸光性增强,即釉内二价铁离子的增加起到增色效应,故而呈青色。

• 单位
  陕西科技大学