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摘要
光致抗蚀剂，也称光刻胶，应用于集成电路等半导体制造中的光刻工艺。光致抗蚀剂在光刻工艺中起到感光和抗刻蚀作用，主要成分有树脂、光引发剂、溶剂和添加剂。光致抗蚀剂是全球技术与贸易竞争的焦点，也是我国产业链供应链的薄弱环节。标准在提升光致抗蚀剂质量稳定性上有重要的作用，我国光致抗蚀剂标准化工作还处于起步阶段。随着我国产业的发展壮大，为光致抗蚀剂标准填补空白创造了条件。本文从光致抗蚀剂产业体系发展现状和需求出发，结合标准现状梳理分析，提出了标准成体系化发展的思路和建议。
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单位中国电子技术标准化研究院
