摘要
电化学沉积法在光滑钛表面上得到的羟基磷灰石涂层存在着不耐载荷,应力作用下结合界面易被破坏的缺陷.本文采用电化学刻蚀技术在钛表面形成微观的粗糙结构.然后用电化学方法在粗糙化的钛表面直接沉积纯的羟基磷灰石,并应用XRD,SEM,FTIR漫反射光谱,电化学交流阻抗及拉伸结合力实验等对复合膜层的化学组成、结构及力学性能进行表征.结果表明,钛表面经粗糙化后可改善羟基磷灰石与钛基体之间的界面状况,显著提高羟基磷灰石涂层与钛基体的结合力.实验表明,电化学沉积可获得纳米尺度均匀致密的纯羟基磷灰石涂层,有望提高植入体的表面生物活性.
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单位厦门大学; 固体表面物理化学国家重点实验室; 化学化工学院