利用原子层沉积技术制备柔性超高阻隔膜研究进展

作者：陈兰兰^*; 孙小杰; 任月庆; 王荣

来源：真空科学与技术学报, 2021, 41(12): 1117-1124.

DOI：10.13922/j.cnki.cjvst.202104009

• 高阻隔膜
• 柔性
• 原子层沉积
• 水汽透过率

在柔性产业的引领下,柔性超高阻隔膜由于可以使器件免受水汽侵蚀,延长使用寿命,广泛应用于有机发光二极管(OLED)柔性面板、量子点显示、柔性光伏等行业。原子层沉积(ALD)技术是一种原子尺度的薄膜制备技术,沉积的薄膜均匀性好、纯度高、而且厚度精确可控,是超高阻隔膜的理想制备方法。本文总结了ALD的基本原理,技术特点和沉积条件等。重点阐述了ALD技术制备单层、多层无机阻隔薄膜,以及有机/无机叠层阻隔薄膜的国内外研究进展及阻隔机理。同时提出有机/无机叠层结构是实现阻隔膜超低水汽透过率的有效手段。最后指出了原子层沉积技术制备柔性超高阻隔膜的未来发展趋势。

• 单位
  北京低碳清洁能源研究院