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摘要
采用直流磁控溅射法研究了磁控溅射沉积氮化铁薄膜的生长机制 ,并归属了其生长普适类型 .结果表明 ,磁控溅射法生长的薄膜表面具有自仿射分形特性 ,而且表面存在一定数量的空位或孔洞 ,粒子呈现悬臂沉积生长现象 .γ′-Fe4 N单相薄膜的生长指数 β≈ 0 .61± 0 .0 2 ,静态标度指数 α≈ 0 .5 7± 0 .2 0 ,各指数之间的关系为 α+α/ β≈ 2 ,薄膜生长属于 KPZ普适类型
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单位无机合成与制备化学国家重点实验室; 吉林大学
