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摘要
本实用新型公开了一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统,其特征是：在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板,纳米尺寸光栅图形在模板的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽；将柔性聚合物基底设置为可连续前行的传送带,其在传送过程中首先经过设置在固定位置上的模板的下方并在模板的刮印下形成沿传送带传送方向上的纳米线槽图形；随后进入真空室内通过等离子体聚合在柔性聚合物基底上成膜,成膜是由两种混合气体在辉光放电的情况下电离成离子并反应,以反应生成物的沉积完成柔性基底上线槽顶部密封,形成纳米通道。本实用新型可以实现连续大面积聚合物纳米通道的制作,拓展纳米通道的应用领域。
- 单位
