Zr-Si-N 扩散阻挡层及其热稳定性的研究

作者：宋忠孝; 丁黎; 徐可为; 陈华

来源：稀有金属材料与工程, 2005, (03): 459-462.

• Zr-Si-N
• 扩散阻挡层
• 热稳定性 Zr-Si-N
• diffusion barrier
• thermal stability

用反应磁控溅射法在不同偏压下沉积了Zr-Si-N 扩散阻挡层,结果表明:Zr-Si-N 膜的Si 含量、电阻率随偏压的升高而降低;Zr-Si-N 膜的晶体相随溅射偏压的升高而增加;Zr-Si-N 扩散阻挡层的热稳定性高,在850oC 时仍能有效阻挡Cu 的扩散。

• 单位
  西安交通大学; 金属材料强度国家重点实验室