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摘要
本发明公开了一种磁控可重构的银纳米线电磁屏蔽膜及制备方法,主要解决现有技术中电磁屏蔽膜密度大、磁损耗低、难以实现电磁屏蔽效能重构的问题。其包括三维骨架和可拉伸的高分子弹性体,该三维骨架是以银纳米线AgNWs@磁性材料的核壳结构复合粒子为原料,构成多个空心柱形单骨条,这些柱形单骨条紧密排布粘接,形成蜂窝状的骨架结构。高分子弹性体采用聚二甲基硅氧烷PDMS、橡胶、聚对苯二甲酸乙二醇酯、氢化苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物、聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯中的一种,其填充在三维骨架中。本发明增强了电磁屏蔽薄膜磁损耗,提高了薄膜电磁屏蔽效能,减小了电磁屏蔽膜密度,可重复用作医用、民用及军用电子设备的电磁屏蔽。
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