辐射探测芯片吸收膜理论设计及镍磷黑膜制备

作者：李亚楠; 梁中翥; 梁静秋; 郑娜; 方伟; 王维彪; 禹秉熙

来源：Acta Physica Sinica, 2010, (07): 4530-4534.

• 绝对辐射计
• 吸收膜
• 镍磷黑膜
• 金刚石 radiometer
• absorbing film
• black-nickel film
• diamond

对新型条形辐射探测芯片的吸收膜层进行了理论分析,并且在金刚石材质的探测芯片上采用电镀方法制备了镍磷黑吸收膜.辐射探测芯片的膜层吸收分析表明,芯片吸收膜层的吸收率正比于表面粗糙度.通过对辐射吸收膜层设计与制作工艺的研究,制备出一种用于条形辐射探测芯片的镍磷黑吸收膜,通过测量其表面形貌结构,表明该膜层具有50nm—1.5μm范围的微结构;红外吸收测试表明其吸收率在1.4—8μm波段为0.989以上,从而提高了辐射探测芯片的性能.

• 单位
  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 应用光学国家重点实验室; 中国科学院东北地理与农业生态研究所; 中国科学院研究生院