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摘要
文章对印制电路板显影脱膜废水进行试验研究,提出采用曝气式微电解处理显影脱膜废水酸析后预处理的工艺,通过正交试验和单因素试验相互验证工艺参数,并获得最佳工艺参数:铁炭比1∶1,pH值3.0,反应时间60 min,CODCr的去除率达到60%左右,重金属等指标低于检出限。
- 单位
文章对印制电路板显影脱膜废水进行试验研究,提出采用曝气式微电解处理显影脱膜废水酸析后预处理的工艺,通过正交试验和单因素试验相互验证工艺参数,并获得最佳工艺参数:铁炭比1∶1,pH值3.0,反应时间60 min,CODCr的去除率达到60%左右,重金属等指标低于检出限。
