摘要
目的:比较自锁托槽联合微种植体支抗和头帽J钩矫治安氏Ⅱ1错支抗磨牙及上颌切牙位置变化的差异。方法:纳入40例成人安氏Ⅱ1错患者,分为微种植体组和J钩组(n=20),拔除4颗第一前磨牙后使用自锁托槽矫治并且增强支抗,微种植体组联合微种植体支抗,J钩组联合头帽J钩,比较2组矫治前后X线头影测量的变化。结果:矫治后,两组SNA°、SNB°、ANB°变化没有统计学意义,SN-OP°都增大(P <0. 01),但组间差异没有统计学意义。微种植体组比J钩组上颌磨牙前移更少(1. 38 vs 2. 37) mm,伸长更少(0. 51 vs 2. 48) mm,上颌切牙内收更多(8. 16 vs 5. 23) mm(组间比较,P <0. 01)。J钩组上颌磨牙伸长,上颌切牙压低,SN-MP°平均增加1. 51°(P <0. 01)。结论:自锁托槽联合微种植体矫治安氏Ⅱ1错与头帽J钩相比获得了更好的矢状向控制,临床上还应考虑生长型、平面倾斜度、覆覆盖等因素选择合适的方法进行垂直向控制。
-
单位四川大学华西口腔医院; 成都市第七人民医院