一种用于光刻模拟的新光源模型

作者：李智峰; 史峥; 陈晔

来源：江南大学学报(自然科学版), 2007, 6(5): 528-531.

DOI：10.3969/j.issn.1671-7147.2007.05.006

• 光刻仿真
• 光源
• 光学临近校正

讨论提出用连续的光源描述函数代替0～1分布的光源函数精确描述光源光强分布,以提高光刻分辨率.在SPLAT的基础上应用新的光源特征函数,建立新的光源模型,并结合测试模板进行仿真.结果显示,新的模型在精度上有较为明显的改善,新光源特征函数有助于建立更为精确的光刻模型.

• 单位
  浙江大学